真空爐中的溫度散布
石墨棒加熱元件安置在加熱室兩邊的安置法,特別適于高真空爐。在高真空氣氛中,由兩邊加熱元件發(fā)生的熱輻射區(qū)可以對工件進行均勻地加熱。當爐溫在400—1300℃時,加熱區(qū)各點溫差可達±5 K。 60年代曾經(jīng),溫度控制一直是熱處理技能中的主要問題之一。后來因為采用了電子溫控技能,這個問題已經(jīng)處理。目前,從溫度散布的角度來看,熱區(qū)溫度散布的精度是重要問題。咱們幾乎總是要優(yōu)先考慮力求在結構上能確保獲得溫度均勻的熱區(qū),至于因為某種原因使熱區(qū)出現(xiàn)暫時性的溫度不均勻現(xiàn)象也會隨保溫時間的延長而消失。反之,溫度較高或較低的熱區(qū)會使它的有害影響貫穿于熱處理的始終。下面咱們介紹在這方面卓有成效,溫度梯度低于0.01K/cm的真空爐結構。 真空爐除了具有溫度均勻性外,還有其它一些優(yōu)點。耗能少,完全避免運用有毒資料,加熱、資料放氣發(fā)生煙塵對環(huán)境的污染、完滿地處理了資料表面氧化或畸變問題。因為有這些優(yōu)點已使真空爐成為現(xiàn)時熱處理工藝中不行少的條件。 真空中的傳熱 從傳熱來看,真空起到雙重作用。
